美国ACM RESEARCH 单片清洗设备
主要优势
清洗药液独立控制，无交叉污染
喷嘴精确控制系统
准确的化学药液供给
较低的使用成本
优质清洗效果
可应用不同种晶圆清洗工艺
高产出
对小颗粒的管控和金属管控能力
特性和规格
多可配置8套清洗腔体
多可配置5种药液进行清洗工艺，RCA药液，氢氟酸，臭氧水，去离子水等。
可对基板片，外延片的清洗工艺
美国ACM RESEARCH佳武自营旗舰店
021-80392064-804
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