美国ACM RESEARCH 无应力抛光设备
主要优势
工艺过程低应力
低耗材成本COC和运营成本COO
低排放可保护环境
特性和规格
整合了无应力抛光、化学机械研磨、湿法刻蚀、干法刻蚀工艺
电抛光液和湿法刻蚀液可实时循环使用
减少化学和耗材使用量
设备尺寸（mm）：4100(长)*2600(宽)*2650(高)
美国ACM RESEARCH佳武自营旗舰店
021-80392064-804
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